| 产品特性：等离子蚀刻 | 加工定制：是 | 品牌：ULVAC爱发科 |
| 型号：蚀刻 | 用途：等离子蚀刻 | 订货号：等离子蚀刻 |
| 货号：高密度等离子蚀刻 | 别名：高密度等离子蚀刻 | 规格：高密度等离子蚀刻 |
| 是否跨境货源：否 |
对应光学器件、MEMS制造的干法刻蚀装置NLD-5700
对应光学器件、MEMS制造的干法刻蚀装置NLD-5700是搭载了磁性中性线（NLD- neutral loop discharge）等离子源的量产用干法刻蚀装置。（此爱发科独chuang的NLD技术设备可实现产生低压、低电子温度、高密度的等离子）
产品特性 / Product characteristics
? 在洁净房内作业可扩张为双腔。（可选配腔室：NLD、有磁场ICP、CCP或者去胶室）
? NLD为时间空间可控的等离子，因此设备干法清洁容易。
? 腔体维护简便。
? 从掩模刻蚀到石英、玻璃刻蚀，可提供各类工艺解决方案。
? 专门的半导体技术研究所会提供万全的工艺支持体制。
产品应用 / Product application
? 光学器件（折射格子、光波导、光学开关等等）、凹凸型微透镜。
? 流体路径作成或光子学结晶。
