| 产品特性：等离子蚀刻 | 加工定制：是 | 品牌：ULVAC爱发科 |
| 型号：高密度等离子蚀刻 | 用途：高密度等离子蚀刻 | 订货号：高密度等离子蚀刻 |
| 货号：高密度等离子蚀刻 | 别名：高密度等离子蚀刻 | 规格：高密度等离子蚀刻 |
| 是否跨境货源：否 |
干法刻蚀设备 APIOS NE-950EX
对应LED量产专用的干法刻蚀设备?NE-950EX?相对我司以往设备实现了140%的生产力。是搭载了ICP高密度等离子源和爱发科独自开发的星型电极的干法刻蚀设备。
产品特性 / Product characteristics
4inch晶圆可放置7片同时处理，6inch晶圆可实现3片同时处理，小尺寸晶圆方面，2inch晶圆可实现29片、3英寸可对应12片同时处理。
搭载了在化合物半导体领域拥有600台以上出货实绩的有磁场ICP（ISM）高密度等离子源。
高生产性（比以前提高140%）。
为防止RF投入窗的污染待在了爱发科独自开发的星型电极。
******Depo对策，实现了维护便利、长期稳定、高信赖性的硬件。
拥有丰富的工艺应用的干法刻蚀技术（GaN蓝宝石、各种metal、ITO、SiC、AlN、ZnO、4元系化合物半导体）。
丰富的可选机能。
产品应用 / Product application
对应LED的GaN、蓝宝石、各种金属、ITO等的干法刻蚀设备
