产品特性:等离子蚀刻 | 加工定制:是 | 品牌:ULVAC爱发科 |
型号:蚀刻 | 用途:NLD干法刻蚀 | 订货号:NLD干法刻蚀 |
货号:NLD干法刻蚀 | 别名:NLD干法刻蚀 | 规格:NLD干法刻蚀 |
是否跨境货源:否 |
研究开发向NLD干法刻蚀设备NLD-570
研究开发向NLD干法刻蚀设备NLD-570,是搭载了爱发科独chuang的磁性中性线(NLD- neutral loop discharge)等离子源的装置,此NLD技术可实现产生低压、低电子温度、高密度的等离子。
产品特性 / Product characteristics
NLD用于与ICP方式相比***压、高密度、***电子温度等离子体的石英、玻璃、水晶、LN/LT基板的加工。
高硬玻璃、硼硅酸玻璃等不纯物的多种玻璃加工,在形状或表面平滑性方面有优异的刻蚀性能。
石英及玻璃作为厚膜resist mask时的也可实现深度刻蚀(100μ m以上)。
可实现高速刻蚀(石英>1μ m/min、Pyrex>0.8μ m/min)
可追加cassette室。
产品应用 / Product application
光学器件(光衍射格子、変调器、光开关等等)、凹凸型微透镜。流体路径作成或光子学结晶。