| 产品特性：等离子蚀刻 | 加工定制：是 | 品牌：ULVAC爱发科 |
| 型号：蚀刻 | 用途：等离子蚀刻 | 订货号：等离子蚀刻 |
| 货号：高密度等离子蚀刻 | 别名：高密度等离子蚀刻 | 规格：高密度等离子蚀刻 |
| 是否跨境货源：否 |
批处理式自然氧化膜去除设备 RISE-300
批处理式自然氧化膜去除设备RISETM-300是用于去除位于LSI的Deep-Contact底部等难以去除的自然氧化膜的批处理式预清洗装置。可处理200mm，300mm尺寸晶圆。
产品特性 / Product characteristics
? 高产率以及低CoO
? 良好的刻蚀均一性（小于±5%/批）和再现性
? 干法刻蚀
? Damage-Free（远端等离子、低温工艺）
? 自对准接触电阻仅为湿法的1/2
? 灵活的装置布局
? 高维护性（方便的侧面维护）
? 300mm晶圆批处理：50枚/批
产品应用 / Product application
? 自对准接触形成工艺前处理
? 电镀工艺前处理
? 晶膜生长前处理
? Co/Ni自对准多晶硅化物的前处理
