| 产品特性：纳米压印 | 加工定制：是 | 品牌：EVG 纳米压印光刻（NIL） |
| 型号：EVG 纳米压印光刻（NIL） | 用途：EVG 纳米压印光刻（NIL） | 订货号：EVG 纳米压印光刻（NIL） |
| 货号：EVG 纳米压印光刻（NIL） | 别名：EVG 纳米压印光刻（NIL） | 规格：EVG 纳米压印光刻（NIL） |
| 是否跨境货源：否 |
EVG?7200 LA
Large-Area SmartNIL? UV Nanoimprint Lithography System
EVG?7200LA 大面积SmartNIL?UV纳米压印光刻系统
大面积***的共形纳米压印光刻
技术数据
EVG7200大面积UV纳米压印系统使用EVG专有且经过量证明的SmartNIL技术，将纳米压印光刻（NIL）缩放为第三代（550 mm x 650 mm）面板尺寸的基板。对于不能减小尺寸的显示器，线栅偏振器，生物技术和光子元件等应用，至关重要的是通过增加图案面积来提高基板利用率。 NIL已被证明是能够在大面积上制造纳米图案的最经济***方法，因为它不受光学系统的限制，并且可以为最小的结构提供的图案保真度。
SmartNIL利用非常强大且可控的加工工艺，提供了低至40 nm *的出色保形压印结果。凭借独特且经过验证的设备功能（包括***的易用性）以及高水平的工艺专业知识，EVG通过将纳米压印提升到一个新的水平来满足行业需求。
*分辨率取决于过程和模板
特征
***SmartNIL?技术可在大面积区域提供***的共形烙印
经过验证的技术，具有***复制保真度和均匀性
多次使用的聚合物工作印模技术可延长母版使用寿命并节省大量成本
强大且***可控的处理
与所有市售的压印材料兼容
EVG7200LA技术数据
晶圆直径（基板尺寸）：直径200毫米以下直至Gen3（550 x 650毫米）
解析度：40 nm-10 ?m（分辨率取决于模板和工艺）
支持流程：SmartNIL?
曝光源：大功率窄带（> 400 mW /cm?）
对准：可选的光学对准：≤±15 ?m
自动分离：支持的
迷你环境和气候控制：可选的
工作印章制作：支持的
