| 产品特性：纳米压印 | 加工定制：是 | 品牌：EVG 纳米压印光刻（NIL） |
| 型号：EVG 纳米压印光刻（NIL） | 用途：EVG 纳米压印光刻（NIL） | 订货号：EVG 纳米压印光刻（NIL） |
| 货号：EVG 纳米压印光刻（NIL） | 别名：EVG 纳米压印光刻（NIL） | 规格：EVG 纳米压印光刻（NIL） |
| 是否跨境货源：否 |
HERCULES? NIL Fully Integrated SmartNIL? UV-NIL Systems
HERCULES?NIL 完全集成的SmartNIL?UV-NIL系统
EVG的HERCULES?NIL产品系列：
HERCULES?NIL完全集成的SmartNIL?UV-NIL系统，200 mm
HERCULES?NIL完全模块化和集成式SmartNIL?UV-NIL系统，300 mm
HERCULES?NIL完全集成的SmartNIL?UV-NIL系统，200 mm；完全集成的纳米压印光刻解决方案，适用于大批量生产，具有EVG***SmartNIL?压印技术
HERCULES NIL是完全集成的UV纳米压印光刻跟踪解决方案，适用于200 mm的晶圆，是EVG的NIL产品组合的***成员。 HERCULES NIL基于模块化平台，将EVG***SmartNIL压印技术与清洁，抗蚀剂涂层和烘烤预处理步骤相结合。这将HERCULES NIL变成了“一站式服务”，将裸露的晶圆装载到工具中，然后将经过完全处理的纳米结构晶圆退回。
为了优化工艺链，HERCULES NIL中包括多次使用的软邮票的制造，这是大批量生产的基石，不需要额外的压印邮票制造设备。作为一项特殊功能，该工具可以升级为具有*** 3 *功能的微型环境，以确保***的缺陷率和质量的原版复制。
通过为大批量生产提供完整的NIL解决方案，HERCULES NIL增强了EVG在全面积NIL设备解决方案中的领导地位。 *根据*** 14644
特征
批量生产最小40 nm *或更小的结构
结合了预处理（清洁/涂覆/烘烤/冷却）和SmartNIL?
体积验证的压印技术，具有***复制保真度
全自动压印和受控的低力分离，可程度地重复使用工作印章
包括工作印章制造能力
高功率光源，固化时间最快
优化的模块化平台可实现高吞吐量
*分辨率取决于过程和模板
HERCULES?NIL完全模块化和集成式SmartNIL?UV-NIL系统，300 mm
包含EVGSmartNIL?技术的完全模块化平台，可支持AR / VR，3D传感器，光子和生物技术
生产应用
EVG的HERCULES NIL 300 mm是一个完全集成的跟踪系统，在单个平台上将清洁，抗蚀剂涂层和烘烤预处理步骤与EVG的专有SmartNIL大面积纳米压印光刻（NIL）工艺结合在一起，用于直径为300 mm的晶片。这是***个基于EVG的全模块化设备平台和可交换模块的NIL系统，可为客户提供的自由度来配置他们的系统，以地满足其生产需求，包括200 mm和300 mm晶圆的桥接功能。
HERCULES NIL 300 mm提供了市场上进的纳米压印功能，具有较低的力和保形压印，快速的高功率曝光和平滑的压模分离。该系统支持各种设备和应用程序的生产，包括用于增强/虚拟现实（AR / VR）头戴式耳机的光学设备，3D传感器，生物医学设备，纳米光子学和等离激元学。
特征
全自动UV-NIL压印和低力剥离：最多300毫米的基材
完全模块化的平台，具有多达八个可交换过程模块（压印和预处理）
200毫米/ 300毫米桥接工具能力
全区域烙印覆盖
批量生产最小40 nm或更小的结构
支持各种结构尺寸和形状，包括3D
适用于高地形（粗糙）表面
*分辨率取决于过程和模板
技术数据
晶圆直径（基板尺寸）100至200毫米/ 200和300毫米
解析度≤40 nm（分辨率取决于模板和工艺）
支持流程：SmartNIL?
曝光源：大功率LED（i线）> 400 mW /cm?
对准：≤±3微米
自动分离：支持的
前处理：提供所有预处理模块
迷你环境和气候控制：可选的
工作印章制作：支持的
