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Centrotherm 高温氧化系统-Oxidator 150
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Centrotherm 高温氧化系统-Oxidator 150

德国Centrotherm公司是国际主流的半导体设备供应商,尤其在高温设备领域。CentrothermOxidator150经过专业的研发,能够满足SiC圆片的高温氧化工艺;同时亦可用于常规的硅圆片的氧化。

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    北京 朝阳区 酒仙桥路14号53幢6层616室
产品特性:高温氧化加工定制:是品牌:centrotherm 德国
型号:Centrotherm 高温氧化系统-Oxidator 150用途:Centrotherm 高温氧化系统-Oxidator 150订货号:Centrotherm 高温氧化系统-Oxidator 150
货号:Centrotherm 高温氧化系统-Oxidator 150别名:Centrotherm 高温氧化系统-Oxidator 150规格:Centrotherm 高温氧化系统-Oxidator 150
是否跨境货源:否

Centrotherm 高温氧化系统-Oxidator 150详细介绍

Centrotherm 高温氧化系统-Oxidator 150

一、产品简介

德国Centrotherm公司是国际主流的半导体设备供应商,尤其在高温设备领域。Centrotherm Oxidator 150 经过专业的研发, 能够满足 SiC 圆片的高温氧化工艺; 同时亦可用于常规的硅圆片的氧化。Centrotherm Oxidator 150 ***的反应腔具有性能高、占地小和生产成本低等特点,为客户提供的工艺灵活度, 同时能够***有毒气体的安全使用。

设备特点:

炉管和加热器均处于真空密闭反应腔内,上下料腔室可用Ar N2 进行吹扫,可以***有毒气体(如 NON2OH2NO2 等) 的安全使用。

  氧化工艺使用 N2O 气氛,可以改善 SiO2/SiC 接触表面以获得更高的通道迁移率,同时可提高SiC表面氧化物的稳定性和寿命。

  提供带有氢氧合成系统的湿氧工艺。

高达 1350 ℃ 的温度和其他支持功能为 SiC 氧化工艺和低界面陷阱密度, 高通道移动率的氧化层研制提供可能。

 

二、适用工艺

高温SiC或Si氧化

氧化后退火(氢气环境)

 

三、产品特性

性能

圆片尺寸: 2″、3″、4″、6″

工艺温度: 900 ℃ ~ 1350 ℃

真空度:  小于10-3 mbar

占地面积小: 1.8m2 

真空密封反应腔

可以并排安装

选项

氢氧合成用于湿氧

机械手装片

测温热偶

尺寸


 

四、设备参数

 

 


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