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Centrotherm 高温退火炉系统-Activator 150
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Centrotherm 高温退火炉系统-Activator 150

CentrothermActivator150高温炉设计用于SiC或GaN器件注入后退火。Centrotherm独特工艺炉管和加热系统设,允许工艺温度达到1850℃。

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    北京 朝阳区 酒仙桥路14号53幢6层616室
产品特性:高温退火炉加工定制:是品牌:centrotherm 德国
型号:Centrotherm 高温退火炉系统-Activator 150用途:Centrotherm 高温退火炉系统-Activator 150订货号:Centrotherm 高温退火炉系统-Activator 150
货号:Centrotherm 高温退火炉系统-Activator 150别名:Centrotherm 高温退火炉系统-Activator 150规格:Centrotherm 高温退火炉系统-Activator 150
是否跨境货源:否

Centrotherm 高温退火炉系统-Activator 150详细介绍

Centrotherm 高温退火炉系统-Activator 150

一、产品简介

Centrotherm Activator 150 高温炉设计用于SiCGaN器件注入后退火。Centrotherm独特工艺炉管和加热系统设,允许工艺温度达到 1850 ℃

此外,Activator 150 系列的产品可以实现生长石墨烯生长。通过碳化硅升华生长石墨层可以获得高性能器件。

Centrotherm ***SiC工艺炉管的研发用以满足新兴的150 毫米 SiC工艺。

Centrotherm Activator 150-5 是为研发工作而***的,而Centrotherm Activator 150-50专为大批量生产设计。

广泛的工艺范围实现了对自定义化程序的优化, 例如温度, 气路系统和压力。

 

二、典型应用

SiC器件高温退火 (注入后)

GaN器件退火

大面积石墨烯生长

SiC表面制备

 

三、产品特性

性能和优势

高活化效率

最小表面粗糙度

温度可达 1850 ℃

占地面积小 [1.8m2]

升温速率可达 100 K/min

批处理晶片尺寸包括 2″、3″、4″、6″

批处理数量达到 40片2″/或3″硅片, 50片4″/或6″硅片

真空度小于10-3 mbar (可选)

可并排安装

 

选项

上下料腔室微环境控制

自动机械手装片

测温热偶


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