| 产品特性：掩膜对准 | 加工定制：是 | 品牌：EVG |
| 型号：EVG?105 | 用途：光刻机 | 订货号：EVG?105 |
| 货号：EVG 抗蚀剂处理系统100 | 别名： 匀胶机 | 规格：齐全 |
| 是否跨境货源：否 |
EVG?105 Bake Module
EVG?105 烘烤模块
独立的EVG?105烘焙模块专为软曝光或曝光后烘焙过程而设计。
技术数据
可以在EVG105烘烤模块上执行软烘烤，曝光后烘烤和硬烘烤过程。受控的烘烤环境可确保均匀蒸发。可编程接近销可提供对抗蚀剂硬化过程和温度曲线的控制。 EVG105烘烤模块可以同时处理300 mm的晶圆尺寸或4个100 mm的晶圆。
特征
独立烘烤模块：晶片尺寸为300毫米，或同时晶片尺寸为四个100毫米
温度均匀性≤±1°C @ 100°C，250°C烘烤温度
用于手动和安全地装载/卸载晶片的装载销
烘烤定时器 基材真空（直接接触烘烤）
N2吹扫和近程烘烤0-1 mm距离晶片至加热板可选 不规则形状的基材
技术数据
晶圆直径（基板尺寸）：高达300毫米 烤盘：温度范围：≤250°C
手动将升降杆调整到所需的接近间隙
