| 产品特性：掩膜对准 | 加工定制：是 | 品牌：EVG |
| 型号：EVG?610 | 用途：光电显示滤光片纳米压印 | 订货号：EVG?610 |
| 货号：EVG?610 | 别名： 紫外线纳米压印光刻系统 | 规格：齐全 |
| 是否跨境货源：否 |
掩模对准系统
EVG的发明，例如1985年世界上***个底面对准系统，***了顶面和双面光刻，对准晶圆键合和纳米压印光刻技术并树立了行业标准。 EVG通过不断开发***掩模对准器产品来增强这些核心光刻技术，从而在这些领域做出了贡献。
EVG的掩模对准系统可容纳尺寸多达300 mm的晶圆和基板，尺寸，形状和厚度各不相同，旨在为***应用提供复杂的解决方案，并具有高度的自动化程度，并为研发提供充分的灵活性。 EVG的掩模对准器和工艺能力已经过现场验证，并已安装在全球的生产设施中，以支持众多应用，包括***封装，化合物半导体，功率器件，LED，传感器和MEMS制造。
EVG?610 掩模对准系统
设计用于光学双面光刻的掩模对准器。
EVG?620NT 半自动/自动光罩对准系统
设计用于光学双面光刻的掩模对准器。
EVG?6200NT 半自动/自动光罩对准系统
设计用于光学双面光刻的掩模对准器。
IQAligner? 自动掩模对准系统
EVG IQ Aligner平台经过优化，可用于200 mm晶圆的自动非接触式接近处理。
IQAligner?NT 自动掩模对准系统
针对非接触式接近处理进行了优化，以实现的吞吐量。最准确的打印间隙控制和***的正常运行时间完全可以满足HVM的要求。
