产品特性:纳米压印 | 加工定制:是 | 品牌:EVG 纳米压印光刻(NIL) |
型号:EVG 纳米压印光刻(NIL) | 用途:EVG 纳米压印光刻(NIL) | 订货号:EVG 纳米压印光刻(NIL) |
货号:EVG 纳米压印光刻(NIL) | 别名:EVG 纳米压印光刻(NIL) | 规格:EVG 纳米压印光刻(NIL) |
是否跨境货源:否 |
EVG?520 HE Hot Embossing System
EVG?520HE 热压印系统
经通用生产验证的热压花系统,可满足要求
技术数据
EVG520 HE半自动热压花系统设计用于对热塑性基材进行高精度压印。 EVG的这种经过生产验证的系统可以接受直径为200 mm的基板,并且与标准的半导体制造技术兼容。热压花系统配置有通用压花腔室以及高真空和高接触力功能,并管理适用于热压花的整个聚合物范围。结合高纵横比压印和多种脱压选项,提供了许多用于高质量图案转印和纳米分辨率的工艺。
特征
用于聚合物基材和旋涂聚合物的热压花和纳米压印应用
自动化压花工艺
EVG***独立对准工艺,用于光学对准的压印和压印
气动压花选项
软件控制的流程执行
技术数据
加热器尺寸150毫米200毫米
基板尺寸150毫米200毫米
最小基板尺寸单芯片100毫米
接触力10、20、60、100 kN
温度:标准:350°C;可选:550°C;
粘合卡盘系统/对准系统:150毫米加热器:EVG?610,EVG?620,EVG?6200
200毫米加热器:EVG?6200,MBA300,SmartView?NT
真空:标准:0.1毫巴; 可选:0.00001 mbar