| 产品特性：纳米压印 | 加工定制：是 | 品牌：EVG 纳米压印光刻（NIL） |
| 型号：EVG 纳米压印光刻（NIL） | 用途：EVG 纳米压印光刻（NIL） | 订货号：EVG 纳米压印光刻（NIL） |
| 货号：EVG 纳米压印光刻（NIL） | 别名：EVG 纳米压印光刻（NIL） | 规格：EVG 纳米压印光刻（NIL） |
| 是否跨境货源：否 |
IQ Aligner? Automated UV Nanoimprint Lithography System
IQAligner? 自动化紫外线纳米压印光刻系统
用于晶圆级透镜成型和堆叠的高精度UV压印系统
技术数据
IQ Aligner UV-NIL系统允许使用直径从150 mm至300 mm的压模和晶片进行微成型和纳米压印工艺，非常适合高度平行地制造聚合物微透镜。该系统从从晶圆尺寸的主图章复制的软性图章开始，提供了混合和整体式微透镜成型工艺，可以轻松地将其与工作图章和微透镜材料的各种材料组合相适应。此外，EV Group提供合格的微透镜成型工艺，包括所有相关的材料专业知识。
EV Group***卡盘设计可为高产量大面积印刷提供均匀的接触力。配置包括从压印基材上释放邮票的释放机制。
特征
用于光学元件的微成型应用
用于全场纳米压印应用
三个独立控制的Z轴，可在印模和基材之间实现***楔形补偿
三个独立控制的Z轴，用于压印抗蚀剂的总厚度变化（TTV）控制
利用柔软的印章进行柔软的UV-NIL工艺
EVG***全自动浮雕功能
抵抗分配站集成
粘合对准和紫外线粘合功能
IQ对准器
技术数据
晶圆直径（基板尺寸）150至300毫米
解析度≤50 nm（分辨率取决于模板和工艺）
支持流程：柔软的UV-NIL，镜片成型
曝光源：汞光源
对准：≤±0.5微米
自动分离：支持的
前处理
涂层：水坑点胶（可选）
迷你环境和气候控制
可选的：
工作印章制作：支持的；
