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纳米压印光刻机 EVG 620 NT 科研使用
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纳米压印光刻机 EVG 620 NT 科研使用

具有UV纳米压印功能的通用掩模对准系统,采用EVG***SmartNIL?技术,可达100mm

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产品特性:纳米压印加工定制:是品牌:EVG 纳米压印光刻(NIL)
型号:EVG 纳米压印光刻(NIL)用途:EVG 纳米压印光刻(NIL)订货号:EVG 纳米压印光刻(NIL)
货号:EVG 纳米压印光刻(NIL)别名:EVG 纳米压印光刻(NIL)规格:EVG 纳米压印光刻(NIL)
是否跨境货源:否

纳米压印光刻机 EVG 620 NT 科研使用详细介绍

EVG?620 NT

Smart NIL? UV Nanoimprint Lithography System

EVG?620NT   SmartNIL?UV纳米压印光刻系统

 

具有UV纳米压印功能的通用掩模对准系统,采用EVG***SmartNIL?技术,可达100 mm

 

技术数据

EVG620 NT以其灵活性和可靠性而著称,以最小的占位面积提供了***的掩模对准技术。操作员友好型软件,***的掩模和模具更换时间以及***全球服务支持使它们成为任何研发环境(半自动批量生产)的理想解决方案。该工具支持多种标准光刻工艺,例如真空,软,硬和接近曝光模式,以及背面对准选项。此外,该系统还为多功能配置提供了附加功能,包括键对齐和纳米压印光刻。此外,半自动和全自动系统配置均支持EVG***SmartNIL技术。

     

SmartNIL是***的NIL技术,可对小于40 nm *的极小特征进行图案化,并可以对各种结构尺寸和形状进行图案化。 SmartNIL与多用途软戳技术相结合,可实现***的吞吐量,并具有显着的拥有成本优势,同时保留了可扩展性和易于维护的操作。 EVGSmartNIL兑现了纳米压印技术的长期前景,纳米压印技术是一种用于大规模生产微米级和纳米级结构的低成本,高产量的替代光刻技术。

*分辨率取决于过程和模板

 

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