加工定制:是 | 品牌:EVG | 型号:EVG620NT |
用途:科研使用 | 订货号:EVG620NT-01 | 货号:1042 |
别名:纳米压印光刻系统 | 规格:134 | 是否跨境货源:否 |
EVG?620NT SmartNIL?UV纳米压印光刻系统
具有UV纳米压印功能的通用掩模对准系统,采用EVG***SmartNIL?技术,可达100 mm
技术数据
EVG620 NT以其灵活性和可靠性而著称,以最小的占位面积提供了***的掩模对准技术。操作员友好型软件,***的掩模和模具更换时间以及***全球服务支持使它们成为任何研发环境(半自动批量生产)的理想解决方案。该工具支持多种标准光刻工艺,例如真空,软,硬和接近曝光模式,以及背面对准选项。此外,该系统还为多功能配置提供了附加功能,包括键对齐和纳米压印光刻。此外,半自动和全自动系统配置均支持EVG***SmartNIL技术。
SmartNIL是***的NIL技术,可对小于40 nm *的极小特征进行图案化,并可以对各种结构尺寸和形状进行图案化。 SmartNIL与多用途软戳技术相结合,可实现***的吞吐量,并具有显着的拥有成本优势,同时保留了可扩展性和易于维护的操作。 EVG的SmartNIL兑现了纳米压印技术的长期前景,纳米压印技术是一种用于大规模生产微米级和纳米级结构的低成本,高产量的替代光刻技术。
*分辨率取决于过程和模板
特征
顶侧和底侧对齐能力
高精度对准台
自动楔形补偿序列
电动和配方控制的曝光间隙
支持***的UV-LED技术
最小化系统占地面积和设施要求
分步流程指导
远程技术支持
多用户概念(***数量的用户帐户和配方,可分配的访问权限,不同的用户界面语言)
敏捷处理和转换重组
台式或带防震花岗岩台的单机版
附加功能:键对齐、红外对准、SmartNIL 、?接触印刷
技术数据
晶圆直径(基板尺寸)
标准光刻:150毫米的碎片
柔软的UV-NIL:150毫米的碎片
SmartNIL?:长达100毫米
解析度≤40 nm(分辨率取决于模板和工艺)
支持流程:柔软的UV-NIL和SmartNIL?
曝光源:汞光源或紫外线LED光源