| 产品特性：光刻机 | 加工定制：否 | 品牌：EVG |
| 型号：光刻系统 | 用途：VG光刻机主要应用于半导体光电器件、功率器件、微波器件及微电子机械系统（MEMS）、硅片凸点、化合物 | 订货号：1111 |
| 货号：11111 | 别名：光刻机 | 规格：134 |
| 是否跨境货源：否 |
技术数据：
曝光源：汞光源/紫外线LED光源
***的对齐功能：手动对准/原位对准验证 ；自动对齐；动态对齐/自动边缘对齐
对准偏移校正算法：通量；
全自动：批生产量：每小时180片
全自动：吞吐量对齐：每小时140片晶圆
晶圆直径（基板尺寸）：高达200毫米
对齐方式：上侧对齐：≤±0.5 ?m；底侧对齐：≤±1,0 ?m；红外校准：≤±2,0 ?m /基板材料，具体取决于； 键对准：≤±2,0 ?m； NIL对准：≤±3.0 ?m
曝光设定：真空接触/硬接触/软接触/接近模式/弯曲模式
楔形补偿：全自动-SW控制；
曝光选项：间隔暴露/洪水暴露/扇区暴露
系统控制，操作系统：Windows；文件共享和备份解决方案/***制配方和参数；多语言用户GUI和支持：CN，DE，FR，IT，JP，KR；实时远程访问，诊断和故障排除
工业自动化功能：盒式磁带/ SMIF / FOUP / SECS / GEM /薄，弯曲，翘曲，边缘晶圆处理
纳米压印光刻技术：SmartNIL?；
