产品特性:光刻机 | 加工定制:否 | 品牌:EVG |
型号:自动掩模对准系统 | 用途:VG光刻机主要应用于半导体光电器件、功率器件、微波器件及微电子机械系统(MEMS)、硅片凸点、化合物 | 订货号:1111 |
货号:11111 | 别名:光刻机 | 规格:134 |
是否跨境货源:否 |
技术数据:
曝光源:汞光源/紫外线LED光源
***的对齐功能:手动对准/原位对准验证 ;自动对齐;动态对齐/自动边缘对齐
对准偏移校正算法:通量;
全自动:批生产量:每小时180片
全自动:吞吐量对齐:每小时140片晶圆
晶圆直径(基板尺寸):高达200毫米
对齐方式:上侧对齐:≤±0.5 ?m;底侧对齐:≤±1,0 ?m;红外校准:≤±2,0 ?m /基板材料,具体取决于; 键对准:≤±2,0 ?m; NIL对准:≤±3.0 ?m
曝光设定:真空接触/硬接触/软接触/接近模式/弯曲模式
楔形补偿:全自动-SW控制;
曝光选项:间隔暴露/洪水暴露/扇区暴露
系统控制,操作系统:Windows;文件共享和备份解决方案/***制配方和参数;多语言用户GUI和支持:CN,DE,FR,IT,JP,KR;实时远程访问,诊断和故障排除
工业自动化功能:盒式磁带/ SMIF / FOUP / SECS / GEM /薄,弯曲,翘曲,边缘晶圆处理
纳米压印光刻技术:SmartNIL?;