产品特性:光刻机 | 加工定制:否 | 品牌:EVG |
型号:光刻 | 用途:VG光刻机主要应用于半导体光电器件、功率器件、微波器件及微电子机械系统(MEMS)、硅片凸点、化合物 | 订货号:1111 |
货号:11111 | 别名:光刻机 | 规格:134 |
是否跨境货源:否 |
目前已有数千台设备安装在世界各地,被广泛地应用于MEMS微机电系统/微流体器件,SOI基片制造,3D封装,纳米压印,化合物半导体器件和功率器件等领域。
EVG光刻机主要应用于半导体光电器件、功率器件、微波器件及微电子机械系统(MEMS)、硅片凸点、化合物半导体等领域,涵盖了微纳电子领域微米或亚微米级线条器件的图形光刻应用。
三、主要特点
自动的微米计控制曝光间距
优异的全局光强均匀度
高度自动化系统