| 加工定制：是 | 品牌：Raith德国赫尔纳 | 型号：Pioneer Two |
| 用途：应用于2英寸以下晶圆的纳米级光刻、高分辨成像及低压电子束光刻。 | 别名：多功能电子束光刻设备 | 规格：134 |
赫尔纳德国总部
公司简介：
Raith作为***的纳米加工领域的精密仪器制造商，产品覆盖了电子束曝光机，聚焦离子束系统，纳米工程和逆向工程应用设备等。
我们的客户包含了涉及纳米技术研究和材料科学等各领域的大学和相关单位，以及需要使用纳米技术研发特殊产品和化合物半导体生产的企业。
公司成立于1980年，总部位于德国多特蒙德，拥有员工200余人。通过荷兰、美国、亚洲和中国的子公司，以及全球各地的合作伙伴和服务网络，我们可以在您身边为您提供尽可能专业及时的服务。
2013年2月，Raith与Vistec Gaussian Beam Lithography公司合并（Vistec公司也是一家***的电子束曝光设备制造商，拥有超过45年电子束曝光经验）。
Raith公司的产品线得到扩展，客户可以在更加全面的纳米加工系统和服务中选择适合的解决方案。 造就Raith的关键所在，便是其广泛齐全的纳米加工产品线和完善服务体系，从工业生产型高端产品，到要求高度灵活、可负担得起的科研型高端产品，一应俱全。Raith所有的纳米加工系统解决方案都采用高斯束原理。 为实现与纳米制造所有专家建立起终身伙伴关系，Raith***为每一个需求提供现有的的技术和性能。 Raith各种解决方案旨在满足客户日益发展的需求。
Raith有着悠久的历史和持续致力于那些在市场上不太冷门但具备特殊光技术和产品的公司，最为长期合作的OEM供应商，为他们提供前沿技术零部件和子系统。
二、设备及应用:
(一). 多功能电子束光刻设备Pioneer Two:
Pioneer Two是一款高性价比的成套的电子束光刻设备，采用30kV Gemini电子束技术，应用于2英寸以下晶圆的纳米级光刻、高分辨成像及低压电子束光刻。
20keV下在HSQ胶上曝光亚8nm线条
(二). 多功能电子束光刻设备eLine Plus:
eLine Plus是一款集成了纳米操纵设备，如纳米探针、用于聚焦电子束诱导过程的气体注入系统等各种多功能选件的电子束光刻设备，广泛应用于学校和各大科研机构，采用30kV Gemini电子束技术，应用于4英寸以下基板的纳米级光刻、纳米工程、纳米操纵、纳米探测、纳米轮廓仪、聚焦电子束诱导和成像分析等。
HSQ胶上制作亚5nm线条
(三). 专业型电子束光刻设备Raith150 Two:
Raith150 Two是一款高分辨电子束光刻设备，采用30kV Gemini电子束技术，应用于8英寸以下基板（可曝光面积6英寸）的纳米级光刻、高分辨成像及低压电子束光刻，可实现亚5nm的曝光结构。
HSQ胶上制作亚4.5nm线条及PMMA胶上制作精细的11nm线条
(四). 专业型电子束光刻设备Voyager:
Voyager是一款高性价比采用创新的eWrite体系结构的电子束光刻设备，采用50kV eWrite 电子束技术，应用于8英寸以下基板（可曝光面积6英寸）的高速直写，适合衍射光学元件、防伪元件的加工及化合物半导体器件的高速加工。
HSQ胶上制作亚7nm线条
(五). 专业型电子束光刻设备EBPG5150/5200:
EBPG5150/5200是一款高自动化的电子束光刻设备，采用100kV EBPG 电子束技术，应用于8英寸以下基板（5150可曝光面积6英寸、5200可曝光面积8英寸）的高深宽比纳米结构曝光、高速电子束直写，适合防伪标识的加工及化合物半导体器件的高速加工。
制作GaAs T型器件及在化合物半导体上的应用
(六). 纳米加工和纳米光刻升级配件Elphy:
Elphy系列光刻升级配件可以将现有的SEM、SEM-FIB、HIM等聚焦离子束电子束系统升级为纳米光刻和纳米加工设备。
