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EVG研发的高度灵活晶圆键合系统EVG501 阳极键合 可实现高精度圆片键合 适合研发和小批量生产
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EVG研发的高度灵活晶圆键合系统EVG501 阳极键合 可实现高精度圆片键合 适合研发和小批量生产

EVG501是一款主要用于研发的高度灵活的键合系统,既可以处理很小的碎片也可以处理200mm的晶圆。可以支持各种形式的键合,如阳极键合、玻璃焊料键合、共晶、扩散、融合、焊接和粘结键合;也可以支持其他热处理过程如氧化物移除和高温烘烤等。

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加工定制:否品牌:EVG型号:EVG501
用途:主要应用于MEMS制造、微流体芯片、化合物半导体的薄片处理、晶圆级***封装以及3D互联、TSV工艺等别名:晶圆键合机规格:11

EVG研发的高度灵活晶圆键合系统EVG501 阳极键合 可实现高精度圆片键合 适合研发和小批量生产详细介绍

EVG研发的高度灵活晶圆键合系统EVG501


EVG公司是世界上的基片键合设备制造商,其键合工艺被认定为MEMS领域的标准工艺。EVG键合系统可实现阳极键合、热压键合、中间层粘着键合、 玻璃浆料键合、硅-硅直接键合、共晶键合及SOI键合等所有键合工艺。EVG键合设备型号齐全,从手动装片系统到全自动片盒送片多工艺室系统,可以满足不同客户的应用要求。无论手动/半自动装片系统, 键合工艺全部自动完成;而且,独特的基片夹具及键合室结构设计,可实现高精度的圆片键合;此外上/下极板为独立分别加热控制,加热温度可达650度。

EVG501是一款主要用于研发的高度灵活的键合系统,既可以处理很小的碎片也可以处理200mm的晶圆。可以支持各种形式的键合,如阳极键合、玻璃焊料键合、共晶、扩散、融合、焊接和粘结键合;也可以支持其他热处理过程如氧化物移除和高温烘烤等。EVG501在夹具更换时非常方便,更换时间一般不超过5分钟,大大减少了客户的操作时间和培训费用,因此EVG501是一款非常适合研发和小量生产的设备。


二、应用范围

主要应用于MEMS制造、微流体芯片、化合物半导体的薄片处理、晶圆级***封装以及3D互联、TSV工艺等。


三、主要特点

化降低客户总拥有成本(TCO)

高键合温度450度,压力10KN

***的硅片低压契型补偿系统以提高良率

温度均匀性: <+/- 1% ;压力均匀性:<+/-?5%

工艺菜单与其他键合系统通用











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